Gate Hrúbka

[Mistico_Pereyra]

Má niekto predstavu o Polysilicon hrúbka (gate materiál) v 0.5L CMOS technológiu AMIS?(len rozsah alebo aproximácie)

 

[amxu77]

používania listu odpor k výpočtu

 

[mobie]

Všeobecne platí, že možná 6000-8000

 

[samuel]

okolo 100N.

 

[flushrat]

okolo 14.8nm
nájdete tox AMIS 0.5um procesu v MOSIS
http://www.mosis.org/cgi-bin/cgiwrap/umosis/swp/params/ami-c5/t62r-params.txt